合肥科晶霧化沉積管式爐OTF-1200X-PLD

產(chǎn)品特點

• 可與準分子激光器配合進行PLD制膜
• 腔體內(nèi)部可安裝多塊靶材，進行多靶激光蒸發(fā)
• 腔體內(nèi)部靶材可旋轉(zhuǎn)
• 可對基片加熱（最高溫度可達1200℃）

加熱爐（對基片加熱）

• 雙層殼體結(jié)構(gòu)，并帶有風冷系統(tǒng)，使殼體表面溫度小于60℃
• 加熱元件：摻鉬鐵鉻鋁合金（表面涂有氧化鋯涂層）
• 最高工作溫度：1200℃
• 最大功率：1.2KW

腔體

• 基片加熱腔體為高純石英材料
• 靶材蒸發(fā)腔體為不銹鋼材料
• 靶材蒸發(fā)腔體內(nèi)可安裝3塊靶材，并且靶材可旋轉(zhuǎn)（轉(zhuǎn)速：0-30rmp）
• 兩個腔體通過卡箍式法蘭連接
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真空系統(tǒng)（選配）

• 10^-2Torr(采用機械泵)
• 10^-5Torr(采用渦旋分子泵)
• 可在本公司購買各種真空泵
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窗口

• 采用藍寶石（Al2O3）
• 尺寸：Φ25*0.5mm
• 允許激光的入射角度為30°-90°
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• 一套壓力控制系統(tǒng)安裝在儀器的腔體上，可保證腔體內(nèi)部的氣壓恒定
• 與混氣系統(tǒng)配合使用，可保證蒸發(fā)腔體中各種氣體的分壓恒定
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混氣系統(tǒng)

• 配有2路質(zhì)量流量計混合系統(tǒng)
• 混氣罐尺寸：Φ80X120mm
• 最大氣壓：3×106Pa
• 精度：±1%FS
• 質(zhì)量流量計量程：1:1-199sccm
                 2:1-499sccm
• 可按客戶要求訂制其他量程的質(zhì)量流量計
• 可選購3-5路混氣系統(tǒng)

等離子射頻電源（可選購）

• 可在設(shè)備上安裝300W等離子射頻電源，使腔體內(nèi)的氣體等離子化，達到等離子化激光蒸發(fā)反應(yīng)鍍膜
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質(zhì)保期

一年質(zhì)保期，終生維護（不包括密封圈、石英腔體和加熱元件）

儀器尺寸

1300mm*1260mm*820mm

質(zhì)量認證

• CE質(zhì)量認證
• 所有電器元件（>24V）都通過UL / MET / CSA認證
• 若客戶出認證費用，本公司保證單臺設(shè)備通過德國TUV認證或CAS認證