合肥科晶等離子濺射儀VTC-16-D

設(shè)備名稱

小型直流磁控濺射儀-VTC-16-D

特點(diǎn)

l特別為SEM樣品鍍導(dǎo)電性薄膜設(shè)計 

l體積小巧，操作簡單，容易上手。 

l擁有小型磁控靶頭，可以鍍金銀鉑等金屬。

主要參數(shù)

輸入電源：220V AC 50/60Hz  

功率：200W 

輸出電壓：500 VDC    

濺射電流：0-50 mA可調(diào) 

濺射時間：0-120S可調(diào)

濺射腔體

l采用石英腔體，尺寸：166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H 

l密封：采用不銹鋼平法蘭的O形密封圈

濺射頭&樣品臺

l濺射頭可安裝靶材直徑為2英寸，厚度0.1 - 2.5mm 

l濺射時間1-120S可調(diào)

l儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼樣品臺，其與濺射頭之間距離30-80mm可調(diào)。 

l可選購加熱型樣品臺，其最高加熱溫度為500℃ 

l安裝有一可手動操作的濺射擋板，可進(jìn)行預(yù)濺射。 

l最大可制膜的直徑為:4英寸

真空系統(tǒng)
 

l安裝有KF25真空接口 

l數(shù)字真空壓力表（Pa） 

l此系統(tǒng)可通入氣體運(yùn)行 

l< 1.0E-2 Torr （采用機(jī)械泵） 

l< 1.0E-5 Torr（采用渦旋分子泵） 

l可在本公司選購各種真空泵

進(jìn)氣

l設(shè)備上配1/4英寸進(jìn)氣口，方便連接氣瓶 

l設(shè)備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕，方便調(diào)節(jié)氣流

靶材

l靶材尺寸要求：Φ50mm×(0.1 - 2.5) mm(厚度) 

l此設(shè)備標(biāo)配為銅靶 

l可在本公司選購各種靶材

薄膜測厚儀（可選）

可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上

產(chǎn)品外型尺寸

L460 mm × W 330 mm × H 540 mm

凈重：20 kg（不包括泵）

質(zhì)量認(rèn)證

CE認(rèn)證

 質(zhì)保

一年保修，終身技術(shù)支持。
特別提示：1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內(nèi)。

2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。

各種靶材的參數(shù)（僅供參考）

對于濺射各種金屬靶材，需要摸索最理想的濺射參數(shù)，下表是本公司實(shí)驗所設(shè)置的參數(shù)，歡迎您帶料來科晶實(shí)驗室摸索工藝（僅供參考）

使用提示

l有時為了達(dá)到理想的薄膜厚度，可能需要多次濺射鍍膜 

l在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈 

l要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合，請在濺射前清潔基材表面 

l超聲波清洗（詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片）：（1）丙酮超聲，（2）異丙醇超聲-去除油脂，（3）吹氮?dú)?/span>干燥，（4）真空烘箱除去水分。 

l等離子清洗（詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片）：可表面粗糙化，可激活表面化學(xué)鍵，可祛除額外的污染物。

l制造一個薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力。 

l請使用>5N純度氬氣等離子體濺射

 l濺射鍍膜機(jī)可以放入Ar或N2氣體手套箱中濺射 

l由于能量低，該模型不適用于涂層的輕金屬材料如Al，Mg，Zn，Ni。請考慮我們的磁控濺射鍍膜機(jī)或熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)。點(diǎn)擊下面圖片查看細(xì)節(jié)

超聲波清洗機(jī)	等離子清洗機(jī)	大功率磁控濺射儀	蒸發(fā)鍍膜儀

警告

l注意：產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動機(jī)體。 

l氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥（不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下，以安全使用。

l濺射頭連接到高電壓。為了安全，操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶頭。