合肥科晶等離子磁控濺射鍍膜儀VTC-2DC

設(shè)備名稱

500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀-VTC-2DC

主要參數(shù)

輸入電源：220V AC 50Hz    

輸出電壓：600 VDC 

輸出功率：最大500W 

整機(jī)功率：1000W（包括真空泵）

濺射腔體

l采用石英腔體，尺寸：166 mm OD x 150 mm ID x 250 mm H（配置直靶頭）

                                 尺寸：166 mm OD x 150 mm ID x 290 mm H（配置帶角度傾斜靶頭） 

l密封法蘭:直徑為165 mm，采用金屬制作，密封采用O形密封圈

 濺射頭&樣品臺(tái)

l濺射頭安裝靶材直徑為2英寸，同時(shí)可選配1英寸濺射頭

1英寸靶頭	2英寸靶頭

l儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼樣品臺(tái)，其與濺射頭之間距離40-80mm可調(diào) 

l樣品臺(tái)可加熱，加熱溫度RT-500℃（RT為室溫） 

l安裝有一可手動(dòng)操作的擋板 

l最大可制膜的直徑為:2英寸（標(biāo)配2英寸，如果需要更大尺寸請(qǐng)與我們銷售聯(lián)系）

真空系統(tǒng)
 

l安裝有KF25真空接口 

l數(shù)字真空壓力表（Pa） 

l此系統(tǒng)運(yùn)行需要Ar氣，并且氣瓶上安裝有減壓閥（設(shè)備中不包含） 

l采用機(jī)械泵< 3.8E-2 Torr(參考值）

l采用渦旋分子泵< 3.8E-5 Torr(參考值） 

l可在本公司選購(gòu)各種真空泵

進(jìn)氣

l設(shè)備上配1/4英寸進(jìn)氣口方便連接氣瓶 

l設(shè)備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕，方便調(diào)節(jié)氣流

靶材

l靶材尺寸要求：Φ50mm×(0.1-5)mm(厚度) 

l可在本公司選購(gòu)各種靶材

薄膜測(cè)厚儀（可選）

可在本公司選購(gòu)薄膜測(cè)厚儀安裝在濺射儀上

產(chǎn)品外型尺寸

540 mm L x 540 mm W x 1100 mm H

凈重：70 kg（不包括泵）

質(zhì)量認(rèn)證

CE認(rèn)證

質(zhì)保

一年保修，終身技術(shù)支持。
特別提示：1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內(nèi)。

2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。 

使用提示

l有時(shí)為了達(dá)到理想的薄膜厚度，可能需要多次濺射鍍膜 

l為了得到較好的薄膜質(zhì)量，必須通入高純氣體（建議> 5N） 

l在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺(tái)的潔凈 

l要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合，請(qǐng)?jiān)跒R射前清潔基材表面 

l超聲波清洗（詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片）：（1）丙酮超聲（2）異丙醇超聲-去除油脂（3）吹氮?dú)飧稍铮?）真空烘箱除去水分。 

l等離子清洗：可表面粗糙化，可激活表面化學(xué)鍵，可祛除額外的污染物。 

l制造一個(gè)薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力。

超聲波清洗機(jī)	等離子清洗機(jī)	蒸鍍儀	手套箱

警告

l注意：產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動(dòng)機(jī)體。 

l氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥（設(shè)備標(biāo)配不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕 以下，以安全使用。 

l濺射頭連接到高電壓。為了安全，操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶