合肥科晶磁控濺射鍍膜儀VTC-2RF

設(shè)備名稱

2英寸300W射頻磁控濺射鍍膜儀-VTC-2RF

視頻

主要參數(shù)

輸入電源：220V AC 50/60Hz 

整機(jī)功率：800W（包括真空泵） 

射頻電源最高使用功率：300W 

靶頭數(shù)量：?jiǎn)蝹€(gè)2英寸磁控濺射靶頭 

樣品臺(tái)加熱溫度：500℃

射頻電源

該設(shè)備有兩種射頻電源可選分別為：（圖一、二）   

l300W自動(dòng)匹配射頻電源   

l100W的手動(dòng)匹配射頻電源

圖一	圖二

注意：

l2英寸靶頭最大使用功率為300W 

l自動(dòng)射頻電源的最大功率為300W，但是受靶頭限制，最大功率只能使用100W 

l自動(dòng)匹配電源價(jià)格相對(duì)貴，但是操作非常方便，無(wú)需手動(dòng)調(diào)節(jié)，可以節(jié)約時(shí)間 

濺射腔體

l采用石英腔體，尺寸：166 mm OD×150 mm ID×250 mm H 

l密封法蘭:直徑為165 mm，采用金屬制作，密封采用O形密封圈

濺射頭&樣品臺(tái)

l一個(gè)2英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層），采用快速接頭與真空腔體相連接 

l儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼可旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，其與濺射頭之間距離30-80mm可調(diào) 

l樣品臺(tái)可加熱，加熱溫度室溫-500℃ 

l安裝有一可手動(dòng)操作的擋板

l最大可制膜的直徑為:4英寸

真空系統(tǒng)
 

l安裝有KF25真空接口 

l數(shù)字真空壓力表（Pa） 

l此系統(tǒng)運(yùn)行需要Ar氣，并且氣瓶上安裝有減壓閥（設(shè)備中不包含） 

l< 1.0E-2 Torr（采用機(jī)械泵）（參考值） 

l< 1.0E-5 Torr（采用渦旋分子泵）（參考值） 

l可在本公司選購(gòu)各種真空泵

進(jìn)氣

l設(shè)備上配1/4英寸進(jìn)氣口方便連接氣瓶 

l設(shè)備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕，方便調(diào)節(jié)氣流

靶材

l靶材尺寸要求：Φ50mm×(0.1-3) mm(厚度) 

l可在本公司選購(gòu)各種靶材

薄膜測(cè)厚儀（可選）

可在本公司選購(gòu)薄膜測(cè)厚儀安裝在濺射儀上

產(chǎn)品外型尺寸

540 mm L×540 mm W×1100 mm H

凈重：70 kg（不包括泵）

質(zhì)量認(rèn)證

CE認(rèn)證

質(zhì)保

一年保修，終身技術(shù)支持。
特別提示：1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內(nèi)。

2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。

使用提示

l此設(shè)備有多種DIY方案可供選擇，具體請(qǐng)聯(lián)系銷售部 

l為了保證濺射效果，非導(dǎo)電靶材必須安裝銅墊塊 

l可在本公司購(gòu)買單晶基片從A到Z

l本公司濺射鍍膜機(jī)在500℃已經(jīng)成功將ZnO濺射在Al2O3襯底上（點(diǎn)擊下圖查看XRD圖譜）

l有時(shí)為了達(dá)到理想的薄膜厚度，可能需要多次濺射鍍膜 

l為了得到較好的薄膜質(zhì)量，必須通入高純氣體（建議> 5N） 

l在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺(tái)的潔凈 

l要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合，請(qǐng)?jiān)跒R射前清潔基材表面 

l超聲波清洗（詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片）：（1）丙酮超聲（2）異丙醇超聲-去除油脂（3）吹氮?dú)飧稍铮?）真空烘箱除去水分。 

l等離子清洗：可表面粗糙化，可激活表面化學(xué)鍵，可祛除額外的污染物。 

l制造一個(gè)薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力。

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